功率半导体实验室
English
首页
团队领导
团队
团队简介
研究方向
科研成果
论文成果
专利成果
科学研究
科研项目
研究概况
人才培养
我的链接
关于我们
更多
首页
团队领导
团队
团队简介
研究方向
科研成果
论文成果
专利成果
科学研究
科研项目
研究概况
人才培养
我的链接
关于我们
English
当前位置:
功率半导体实验室
>>
科研成果
>>
专利成果
专利成果
一种含稀土栅介质层的平面型 SiC MOSFET 及其制造方法
发布时间:2023-04-04
点击次数:
专利说明:
杨伟锋,王鑫炜,冶晓峰,龙明涛
申请号:
202310089961.3
发明人数:
4
是否职务专利:
否
上一条:
一种高响应度自供电日盲光电探测器及其制备方法
下一条:
一种用于SiC功率器件的阶梯状复合终端结构及其制造方法