2024年5月17日，应物理科学与技术学院的邀请，同济大学王占山教授和任中洲教授来我校访问交流。交流期间，王占山教授和任中洲教授在海韵园物理楼552会议室为学院师生带来了两场精彩的学术讲座。报告由物理科学与技术学院院长陈张海教授主持。

王占山教授报告现场

王占山教授指出激光薄膜器件有着极其广泛和重要的应用，这使许多应用成为可能。接着介绍了激光薄膜的重要性，阐明高损伤阈值激光薄膜和低损耗激光薄膜的制作与表征。采用人工局域强点解决了激光薄膜器件损伤定量研究的难题，发现了电场增强是激光薄膜损伤的首要原因，提出了场控薄膜设计方法，显著提升了强激光薄膜器件的制作水平。王教授继续阐明了激光微结构器件损伤的物理机制，对其开发抑制电场增强的微结构器件制作技术，形成大面积激光微结构器件的流程和方法，完成了微结构器件研制进行分享。王教授总结提出其所研制的强激光薄膜器件获得了广泛的应用，将继续推动我国强激光装备的发展。

通过原子核反应合成新的原子核（新核素）和新的化学元素是当前物理学研究热点之一。 接着，任中洲教授首先简要介绍元素研究的历史，包括一些科学发现背后的有趣故事及影响，特别是科学研究过程中一些重要学术争论，也介绍了课题组近期的研究新进展。最后任教授提出将来重离子加速器上新核素和新元素合成工作，特别是关于Z=119和Z=120新元素合成现状及困难。

任中洲教授报告现场

在互动环节，与会师生结合讲座主题与两位教授展开热烈的交流讨论。报告结束后，学院相关老师同学和两位教授就学术前沿、职业规划等方面进行深入探讨和交流。许多研一的同学对于如何做一个实事求是的科技工作者有了更全面的认识，为大家在以后的科研工作中少走弯路，培养正确的科研价值观起到了很好的指导作用。

主讲人简介：

王占山，同济大学物理科学与工程学院教授，博导，国家杰出青年科学基金获得者，教育部高层次人才，上海市领军人才，国家基金委创新研究群体负责人, 国际光学与光子学学会会士（SPIE Fellow），中国光学学会会士。曾获国家技术发明奖二等奖，教育部技术发明奖一等奖等。主要研究领域包括高损伤阈值激光薄膜器件、精密光学成像系统、极紫外与X射线薄膜器件等。发表论文200余篇，是多个境外国际会议程序委员会委员。现任中国光学学会光学薄膜专业委员会副主任，瞬态光学与光子技术国家重点实验室学术委员会委员，《光学精密工程》《光学学报》《光子学报》编委。

任中洲，同济大学物理科学与工程学院特聘教授。国家杰出青年科学基金获得者，教育部高层次人才。曾获中国物理学会吴有训物理奖(2013)，是国务院政府特殊津贴专家(2018年度)。曾在法国GANIL国家实验室做博士后（1992-1993），在日本理化学研究所作为特别研究员工作（1996），在德国Tuebingen大学作为洪堡研究员工作（1997-1999），在日本大阪大学作为COE教授工作（1999-2000）。主要从事原子核物理和理论物理研究，研究内容包括晕核性质，集体流同位旋依赖性，电子-核散射，原子核集团结构和衰变，奇特原子核性质和超重原子核（新元素）性质研究等 。