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于扬老师研究组 电子束光刻/扫描电镜系统、划片机和等离子体刻蚀系统对实验室共享开放


      物理学院于扬老师研究小组的电子束光刻/扫描电镜系统、划片机和等离子体刻蚀系统对实验室共享开放。需要使用设备的老师请登录microfab.nnlm.ac.cn网页，在“文档下载”中下载“综合培训－仪器培训申请表”和“仪器培训和使用费支付承诺书（分步计费） ”，按要求填写表格并签字，交到唐仲英楼LB09，统一安排培训。

　　如需详细信息，可咨询于海峰老师，联系电话：18601029980
 
一．EBL/SEM 设备指标和说明：
1，加速电压5KV-30KV.
2，束流：5-600pA (根据不同的光阑需要).
3，推荐硅片尺寸小于20mm*20mm.
4，极限曝光尺寸10nm,最小稳定可重复尺寸50nm.
5，最小套刻精度200nm.
 
收费标准：20机时/一万元（不包年），培训费用5000元/人
 
 
二． 沈阳和研科技DS610型划片机：
1. 最大切割尺寸 6英寸。
2. 电脑自动、半自动、手动模式可选，切割精度小于10um.
 
收费标准：DS616划片机：200元开机费，20元/刀。
 
 
三．ICP-98C型高密度等离子体刻蚀机
1. 最大基片尺寸：4寸，均匀性小于10%;
2. 用Cl基气体，刻蚀Al、GaAs、GaN等多种金属和化合物半导体薄膜材料;
3. 用F基气体刻蚀Si、Poly-Si、SiNx、SiO2、W、WSi、Mo、MoSi、Ta、TaSi、石英等
 
收费标准: 使用氟基气体 500元/次（不超过5个样品），使用氯基气体 1000元/次（不超过5个样品）。


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