LIU HUAFENG

·Patents

Current position: 英文主页 > Scientific Research > Patents
发明名称: 一种消除介质层针孔缺陷影响的方法 发明人:刘骅锋,涂良成,宋萧萧,王秋,饶康,渠自强,伍文杰,刘金全,范继 申请号:201711193289.3 申请日: 2017-11-24
Release time:2019-03-11  Hits: