主讲人:王春锦

主讲人简介:王春锦博士是香港理工大学工业及系统工程系超精密加工技术国家重点实验室（SKL-UMT）的研究助理教授，博士生导师。2010年及2015年于厦门大学先后取得学士和博士学位。于2015年12月加入香港理工大学超精密加工技术国家重点实验室，先后担任博士后，研究员及研究助理教授。研究方向为超精密加工技术及装备开发，尤其是超精密抛光技术。目前为中国光学工程学会（CSOE）的高级会员，国际工程与技术学院（AET）的会员，中国光学工程学会先进光学制造青年专家委员会委员，欧洲精密工程与纳米技术国际会议（EUSPEN）国际学术委员会委员，亚洲精密工程与纳米制造国际会议（ASPEN）国际学术委员会委员。目前发表了70多篇SCI检索期刊论文，并获得10多项专利。任职五本研究期刊的青年编委，包括《International Journal of Extreme Manufacturing》（影响因子14.7）等。

报告简介：随着超精密自由曲面需求的日益增长，促进了精密抛光技术的发展与升级。然而，当前的超精密抛光方法通常抛光效率较低且成本高昂，而现有的批量化抛光手段基本难以实现高形状精度保持性和纳米级表面粗糙度。为应对这一挑战，课题组开展了磁场辅助批量化抛光（MAMP）的新方法研究，不仅实现了自由曲面的纳米级批量抛光，还确保了微米级的形状精度。本报告将主要介绍相应的抛光工艺原理，及其在自由曲面抛光上的案例研究，如精密光学模具、玻璃组件、医疗手术器械、切削刀具和涡轮叶片等。

时 间:2024-05-24 09:30

地 点:精工园11#403