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一、主要规格及技术指标

1.光谱范围190-885nm，可扩展至2100nm

2.测量范围：Psi= 0°- 90°，Delta= 0°- 360°，无死区。

3.光源: 高稳定75 W氙灯

4.光弹晶体调制，频率≥50kHz，恒温控制

5.测量重复性（80-100nm SiO2/Si样品，30次测量标准偏差 1δ）：厚度d≤0.4Å，折射率n（633nm）≤0.0003。

6.透明基底：自动收集背反射，背反射抑制处理能力。

二、主要功能及特色

1. 光谱190-885nm内的折射率以及消光系数

2. 表征有机/无机块体材料以及薄膜样品厚度

3. 界面粗糙程度测量

4. 各向异性薄膜材料的光学性质表征