报告主题：光刻胶以及周边材料介绍和国产化进程探讨
报告嘉宾：康文兵（教授，山东大学化学与化工学院）
时 间：2024年10月21日（周一）下午3点20
地 点：材料学院B2-534会议厅
报告人简介
康文兵教授，山东大学化学与化工学院，于1990年3月从日本名古屋工业大学获得博士学位。1993年4月-2013年9月在日本安智电子材料(现为德国默克公司)先后任研发部长，质保部长及产品总监。主要从事于OLED，芯片及显示器制造用光刻胶，抗反射膜材料，光刻胶形貌处理材料，涂膜型绝缘材料SOD(聚硅氮烷)等的研发及产业化。之后回国创业打造光刻胶关键材料产业链。2018年9月作为博士生导师加入山东大学进行先端光刻及涂膜型材料的机理及应用技术方面的研究。研究方向包含材料之间的纳米级相互作用机理解析及应用，涂膜型功能材料的研发及其应用研发，感光材料的研发及应用。
报告内容简介
显示器以及芯片制造和封装离不开图案制造。光刻胶和关联工艺材料及技术是电子行业不可缺少的关键技术。光刻材料以曝光波长不同而使用不同的材料体系。大部分光刻胶分i-线光刻胶（365nm）, DUV光刻胶（248nm），ArF干式以及湿法光刻胶（193nm），EUV（14.5nm）和电子束光刻胶。在使用光刻胶时由于抗反射以及其他要求需要使用抗反射膜，显影冲洗防倒塌，以及尺寸缩放材料等周边材料。为了提升光刻解像度和降低LER，光刻胶中材料的扩散控制起关键作用。本次报告将对材料的真正国产化和对国际上仍然有待理解和解决的一些问题进行探讨。
欢迎有兴趣的师生前来参加！
材料学院
2024年10月18日
撰稿：张晓颖、陈亚辉 审核：王东、王雷
