李波

个人信息

Personal information

副教授     硕士生导师

性别:男

在职信息:在职

所在单位:光学与电子信息学院

毕业院校:华中科技大学

学科:电子科学技术
光学工程

研究方向

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极紫外光刻光源驱动源

目前国际上用于线宽7nm以下芯片制造技术的13.5nm极紫外光刻设备已经工业应用。光刻巨头ASML所采用的高功率CO2激光诱导等离子体产生13.5nm极紫外光源已经被验证为可行和有效的技术方案。我国02专项中的“极紫外光刻关键技术研究”也选定高功率CO2激光诱导等离子体为其极紫外光源产生方案。为满足批量光刻的需求,需要平均功率高达4万瓦,重频50kHz以上,脉宽10-30ns的CO2激光光源诱导等离子体产生极紫外光源。